FOURS DE REFUSION SOUS-VIDE

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En savoir plus

• Energie verte.
• Température continue de 1100°C max wafer/substrat.
• Excellentes capacités à faible température : 150°C – 1100°C.
• 100 étapes par programmes.
• Vide absolu à approximativement 7 x 10-7 mbar.
• Jusqu’à un processus de 100 wafers
avec une uniformité inférieure à 1.5 K.
• Rampes de températures rapides.
• Rampes de températures lentes : 1K pour 100 minutes.
• Chambre en Quartz de catégorie semi-conducteur.

Plus d'informations ici

PEO

Les fours polyvalents PEOs sont des fours à procédé hot wall avec fils de Kanthal chauffés. Les PEOs sont idéaux pour le R&D, le développement de nouveaux procédés uniques et sophistiqués ainsi que pour la petite et moyenne production.


• Energie verte.
• Température continue de 1100°C max wafer/substrat.
• Excellentes capacités à faible température : 150°C – 1100°C.
• 100 étapes par programmes.
• Vide absolu à approximativement 7 x 10-7 mbar.
• Jusqu’à un processus de 100 wafers
avec une uniformité inférieure à 1.5 K.
• Rampes de températures rapides.
• Rampes de températures lentes : 1K pour 100 minutes.
• Chambre en Quartz de catégorie semi-conducteur.

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Les fours polyvalents PEOs sont des fours à procédé hot wall avec fils de Kanthal chauffés. Les PEOs sont idéaux pour le R&D, le développement de nouveaux procédés uniques et sophistiqués ainsi que pour la petite et moyenne production.